掩膜版检测

随着半导体工艺进入7nm及以下节点，掩膜版缺陷密度要求已提升至纳米级。技术升级趋势包括电子束检测设备占比提升以识别3nm以下制程缺陷、AI算法实现缺陷自动分类（识别准确率≥99.7%）、以及光学+电子束复合检测成为主流。目前高端掩膜版国产化率不足20%，国产替代需求迫切，推动本土检测能力发展。

检测服务覆盖多种掩膜版类型，包括：

• 石英基板掩膜版（DUV光刻工艺）

• 铬膜掩膜版（金属镀层图形化产品）

• 相位偏移掩膜版（PSM，含MoSiON多层结构）

• 乳胶掩膜版（PCB制程用）

• 柔性聚合物掩膜版（卷对卷工艺用）

• 平板显示用掩膜版（TFT-LCD、OLED等）

微谱 大型研究型检测机构

自建13万平米实验室及办公场地，布局全国30多个城市

具备CMA/CNAS资质，完善的仪器平台和强大的谱图数据库

为原料供应商、生产加工企业等各类客户提供产品质量数据

帮您排查产品性能是否达标，根据检测要求进行检测

每年出具近45万+技术报告，谱图库数据已达500万+以上

提供非标实验及研发服务，常规5-7个工作日出具检测报告！