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仪器信息网 3i讲堂 Hydranal™新一代醛酮试剂登场,半导体用化学品水分检测有了新武器
[报告]Hydranal™新一代醛酮试剂登场,半导体用化学品水分检测有了新武器
开始时间: 2026-10-20 09:30
主讲老师: 张彦华 | 高级技术支持工程师
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报告相关会议
第七届半导体材料检测与器件分析新技术网络研讨会
2026年10月20日 09:00 -- 10月22日 18:00
当前,半导体产业正处于AI驱动的深刻变革周期中。以碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)为代表的第三代半导体,已成为全球科技产业竞争的战略制高点,也是我国培育新质生产力的核心领域。2026年,预计第三代半导体功率及射频电子产值增速将达15%以上,中国企业碳化硅材料已占全球供给约50%,进入全球第一梯队。与此同时,半导体分析检测的定位正从产业链末端的质量把关环节,升级为贯穿设计、制造、封测全流程的核心支点。芯片集成度不断提升、器件结构日趋复杂、新材料新工艺加速迭代,检测与失效分析作为保障芯片品质稳定、运行可靠的关键技术,其重要性日益凸显。10月20-22日,仪器信息网将联合第三代半导体产业技术创新战略联盟(CASA)举办第七届半导体材料与器件分析检测新技术网络研讨会。本届会议围绕已确定的四大专场展开,深入探讨半导体检测技术从标准引领、材料结构表征、成分与微污染控制,到器件性能、可靠性与失效分析的全链条技术进展与创新应用。分享有礼!(需要邀请新用户,介意请勿参加)邀请8位新用户报名得纸质书一本《碳化硅功率器件:特性、测试和应用技术 第2版》邀请5位新用户报名得纸质书一本《半导体的检测与分析(第2版)》或《图解入门 半导体制造工艺基础精讲(原书第4版)》(二选一) 添加微信(15718850776)领取,截至时间10月22日12:00
报告介绍
报告介绍:
半导体制作过程中会大量使用化学品,例如:酸碱,有机溶剂,光刻胶,金属有机前躯体等。有些化学品对水分要求非常严格,通常控制在ppm级别。水分超标容易引发晶圆水痕,光刻图形畸变,产品良率下降。金属有机前驱体遇水会分解,直接造成薄膜失效。 迄今为止,大部分商用卡尔费休试剂都含有某种类型的醇,这会限制,甚至阻止对醇敏感样品的水分测试,索致泰全新推出的Hydranal TM NEXTGEN FA新一代醛酮试剂则完全解决了这个问题。这是全球少数商用的无醇,无咪唑,无氯仿的卡尔费休醛酮试剂。该试剂用乙腈完全替代了醇溶剂,即使在反应性很强的样品中,这种新试剂也能获得准确的卡尔费休滴定结果。新配方不含 CMR(致癌、致突变和生殖毒性)物质或卤代烃,将成为滴定挑战性样品的更安全替代品。
主讲老师:
张彦华
张彦华是Hydranal TM卡尔费休试剂全球三位专家之一。负责HydranalTM整个亚太区的水分测试技术支持,具有超过15年的水分测试实践经验,擅长根据不同样品结构,调整合适的卡尔费休试剂类型及仪器参数,解决水分测试过程中的各种疑难杂症。
参会说明:

一、报名贴士(敷衍填写将不予审核)

  • 1、请认真填写各项,您的手机号为您的参会凭证。

  • 2、报名后,参与直播可获取会后资料、加交流群。

二、参会方式(手机电脑均可参会)

  • 1、直播前一天,助教会统一审核。审核通过后,会发送参会链接给报名手机号。

  • 2、如无法正常参会,请拨打页面下方电话,帮您解决

三、会议资料(交流群,会后视频)

  • 1、报名并参与直播可与专家问答交流。会议群会在直播当天展示,会议ppt无法提供。

  • 2、关注【仪器信息网微服务】,微信提醒会议进度,便捷查阅近期会议及视频回放。

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