半导体制作过程中会大量使用化学品，例如：酸碱，有机溶剂，光刻胶，金属有机前躯体等。有些化学品对水分要求非常严格，通常控制在ppm级别。水分超标容易引发晶圆水痕，光刻图形畸变，产品良率下降。金属有机前驱体遇水会分解，直接造成薄膜失效。 迄今为止，大部分商用卡尔费休试剂都含有某种类型的醇，这会限制，甚至阻止对醇敏感样品的水分测试，索致泰全新推出的Hydranal TM NEXTGEN FA新一代醛酮试剂则完全解决了这个问题。这是全球少数商用的无醇，无咪唑，无氯仿的卡尔费休醛酮试剂。该试剂用乙腈完全替代了醇溶剂，即使在反应性很强的样品中，这种新试剂也能获得准确的卡尔费休滴定结果。新配方不含 CMR（致癌、致突变和生殖毒性）物质或卤代烃，将成为滴定挑战性样品的更安全替代品。