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”半导体光刻技术与应用“主题网络研讨会
会议时间：2021年05月14日 09:00 -- 05月14日 10:45
| 票务类型 | 参会人数量 |
|---|---|
| 培训注册 ：500元 日期：6月9日前 |
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大会注册【在读学生】：700元 日期：6月10日—11日 |
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大会注册【非在读学生】：1500元 日期：6月10日—11日 |
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你已报名该会议，请勿重复报名
会议时间：05月14日 09:00 -- 05月14日 10:45
目前我国半导体产业对外依赖严重，以集成电路为例，去年全年，我国自海外购买的集成电路达5435亿枚，是我国进口最大的商品之一。因此，半导体已成为各地“十四五”规划重点关注领域，而半导体产业的发展离不开先进的光刻技术。与此同时，随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级（从毫米级到亚微米级），已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术；使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃数量级。光刻技术成为一种精密的微细加工技术。
基于此，仪器信息网拟于2021年5月14日举办“半导体光刻技术与应用主题网络研讨会”，依托“网络讲堂”栏目，邀请业内专家以及厂商技术人员参与本次网络研讨会，就半导体光刻技术等话题共同探讨，为广大从事半导体光刻设备和技术研发的专家学者和技术人员提供一个交流的空间。
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微纳加工中常见图形化设备及加工实例
刘 文
中国科学技术大学微纳研究与制造中心 工程师
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