XPS实验技术和图谱分析基础
X射线光电子能谱(XPS) 技术是一种重要的表面分析手段。该技术基于光电效应,采用X射线激发被测样品表面纳米尺度内的原子发射光电子,通过系统探测到所发射光电子的动能等信息,进而实现样品表面的元素种类及化合态的定性和定量的分析。XPS的分析范围广泛,可对从Li到U范围内的元素进行研究,因而不仅被广泛地应用于化学分析、材料开发应用研究、物理理论探讨等学术领域,还被广泛地应用于机械加工、印刷电路技术、镀膜材料工艺控制、纳米功能材料开发等工业领域。
本次《XPS实验技术和图谱分析基础》网络讲堂主要涉及一下几个方面:
XPS实验技术基础简介
XPS样品制备和影响图谱质量的相关因素探讨
Thermo Avantage软件中图谱的一般处理功能介绍
复杂XPS图谱介绍
XPS图谱谱峰拟合方法介绍
单峰拟合
双峰拟合
非线性最小二乘拟合
查看更多