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仪器信息网 3i讲堂 高分辨X射线衍射技术在半导体薄膜结构表征中的应用
[报告]高分辨X射线衍射技术在半导体薄膜结构表征中的应用
开始时间: 2026-10-20 16:30
主讲老师: 陈林旺 | 应用工程师
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报告相关会议
第七届半导体材料检测与器件分析新技术网络研讨会
2026年10月20日 09:00 -- 10月22日 18:00
当前,半导体产业正处于AI驱动的深刻变革周期中。以碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)为代表的第三代半导体,已成为全球科技产业竞争的战略制高点,也是我国培育新质生产力的核心领域。2026年,预计第三代半导体功率及射频电子产值增速将达15%以上,中国企业碳化硅材料已占全球供给约50%,进入全球第一梯队。与此同时,半导体分析检测的定位正从产业链末端的质量把关环节,升级为贯穿设计、制造、封测全流程的核心支点。芯片集成度不断提升、器件结构日趋复杂、新材料新工艺加速迭代,检测与失效分析作为保障芯片品质稳定、运行可靠的关键技术,其重要性日益凸显。10月20-22日,仪器信息网将联合第三代半导体产业技术创新战略联盟(CASA)举办第七届半导体材料与器件分析检测新技术网络研讨会。本届会议围绕已确定的四大专场展开,深入探讨半导体检测技术从标准引领、材料结构表征、成分与微污染控制,到器件性能、可靠性与失效分析的全链条技术进展与创新应用。分享有礼!(需要邀请新用户,介意请勿参加)邀请8位新用户报名得纸质书一本《碳化硅功率器件:特性、测试和应用技术 第2版》邀请5位新用户报名得纸质书一本《半导体的检测与分析(第2版)》或《图解入门 半导体制造工艺基础精讲(原书第4版)》(二选一) 添加微信(15718850776)领取,截至时间10月22日12:00
报告介绍
报告介绍:
随着半导体材料从第一代到第三代材料持续发展,其应用已由集成电路拓展至光通信、光电子、新能源及功率器件等领域。与此同时,先进半导体器件逐渐向多层外延、超晶格及复杂异质集成结构演进,薄膜的晶体质量、晶格失配、应变状态、组分、膜厚及界面特性等微观结构参数对器件性能与稳定性具有重要影响。X射线具有无损、结构敏感及适用于多尺度薄膜分析等特点,是半导体材料结构表征的重要技术手段。本报告将围绕多功能高分辨X射线衍射(HRXRD)技术在半导体材料结构表征中的应用展开,介绍高分辨衍射、摇摆曲线、倒易空间映射(RSM)及X射线反射率(XRR)等测试方法,并结合多层膜实测案例,探讨多功能高分辨XRD在晶体质量、应变与晶格参数、膜层结构及界面特性分析中的应用价值。
主讲老师:
陈林旺
陈林旺,毕业于中国科学技术大学料科学与工程专业硕士,担任合肥埃谱科技有限公司应用工程师
参会说明:

一、报名贴士(敷衍填写将不予审核)

  • 1、请认真填写各项,您的手机号为您的参会凭证。

  • 2、报名后,参与直播可获取会后资料、加交流群。

二、参会方式(手机电脑均可参会)

  • 1、直播前一天,助教会统一审核。审核通过后,会发送参会链接给报名手机号。

  • 2、如无法正常参会,请拨打页面下方电话,帮您解决

三、会议资料(交流群,会后视频)

  • 1、报名并参与直播可与专家问答交流。会议群会在直播当天展示,会议ppt无法提供。

  • 2、关注【仪器信息网微服务】,微信提醒会议进度,便捷查阅近期会议及视频回放。

  • 3、下载【仪器信息网app】,获得会后回放视频、免费下载10万篇标准、获得实验室操作实战宝典等精品资料。

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