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仪器信息网 3i讲堂 痕量杂质可视化:瑞士万通离子色谱在半导体行业的分析实践
[报告]痕量杂质可视化:瑞士万通离子色谱在半导体行业的分析实践
开始时间: 2026-10-21 09:30
主讲老师: 李致伯 | 产品经理
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报告相关会议
第七届半导体材料检测与器件分析新技术网络研讨会
2026年10月20日 09:00 -- 10月22日 18:00
当前,半导体产业正处于AI驱动的深刻变革周期中。以碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)为代表的第三代半导体,已成为全球科技产业竞争的战略制高点,也是我国培育新质生产力的核心领域。2026年,预计第三代半导体功率及射频电子产值增速将达15%以上,中国企业碳化硅材料已占全球供给约50%,进入全球第一梯队。与此同时,半导体分析检测的定位正从产业链末端的质量把关环节,升级为贯穿设计、制造、封测全流程的核心支点。芯片集成度不断提升、器件结构日趋复杂、新材料新工艺加速迭代,检测与失效分析作为保障芯片品质稳定、运行可靠的关键技术,其重要性日益凸显。10月20-22日,仪器信息网将联合第三代半导体产业技术创新战略联盟(CASA)举办第七届半导体材料与器件分析检测新技术网络研讨会。本届会议围绕已确定的四大专场展开,深入探讨半导体检测技术从标准引领、材料结构表征、成分与微污染控制,到器件性能、可靠性与失效分析的全链条技术进展与创新应用。分享有礼!(需要邀请新用户,介意请勿参加)邀请8位新用户报名得纸质书一本《碳化硅功率器件:特性、测试和应用技术 第2版》邀请5位新用户报名得纸质书一本《半导体的检测与分析(第2版)》或《图解入门 半导体制造工艺基础精讲(原书第4版)》(二选一) 添加微信(15718850776)领取,截至时间10月22日12:00
报告介绍
报告介绍:
半导体制造对超纯水、湿电子化学品、晶圆清洗液等介质中的痕量阴阳离子杂质控制要求严苛,离子色谱是该领域离子杂质定量检测的核心手段。瑞士万通离子色谱平台适配半导体不同样品基质的分析需求。通过将高灵敏度离子色谱分析系统与多种样品前处理技术想结合,可自动完成样品中痕量杂质离子的检测,为半导体行业提供准确可靠的杂质离子检测结果。本次报告主要介绍瑞士万通离子色谱在半导体领域典型样品中的应用与性能表现。
主讲老师:
李致伯
李致伯,男,离子色谱专业委员会青年委员,现任瑞士万通中国有限公司离子色谱仪产品线产品经理。主要从事离子色谱技术和应用方法研究,多次参与国家标准方法、行业标准方法的制修定工作。在离子色谱仪产品及其行业应用方面有着十多年丰富的理论和实践经验。
参会说明:

一、报名贴士(敷衍填写将不予审核)

  • 1、请认真填写各项,您的手机号为您的参会凭证。

  • 2、报名后,参与直播可获取会后资料、加交流群。

二、参会方式(手机电脑均可参会)

  • 1、直播前一天,助教会统一审核。审核通过后,会发送参会链接给报名手机号。

  • 2、如无法正常参会,请拨打页面下方电话,帮您解决

三、会议资料(交流群,会后视频)

  • 1、报名并参与直播可与专家问答交流。会议群会在直播当天展示,会议ppt无法提供。

  • 2、关注【仪器信息网微服务】,微信提醒会议进度,便捷查阅近期会议及视频回放。

  • 3、下载【仪器信息网app】,获得会后回放视频、免费下载10万篇标准、获得实验室操作实战宝典等精品资料。

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