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仪器信息网 3i讲堂 NexION 系列 ICP-MS 赋能高端新材料 —— 痕量杂质分析前沿技术与应用
[报告]NexION 系列 ICP-MS 赋能高端新材料 —— 痕量杂质分析前沿技术与应用
开始时间: 2026-04-28 14:30
主讲老师: 田新 | FAS
所在公司: PerkinElmer
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报告相关会议
第五届ICP-MS及其他无机质谱技术进展与应用网络研讨会
2026年04月28日 09:00 -- 04月29日 12:00
ICP-MS作为“中大盘、稳增长”型的细分技术市场,在痕量金属分析领域占据着重要地位。当前,其在食品、环境、地矿等传统领域的刚性需求保持稳定,同时在新能源、新材料、生命科学等新兴赛道中释放出强劲的增长潜力。与此同时,面对日益复杂的元素分析需求,辉光放电质谱(GD-MS)、二次离子质谱(SIMS)、激光质谱等其他无机质谱技术也正获得越来越多的行业关注。为深入探讨行业前沿技术,促进学术交流与应用创新,仪器信息网将于2026年4月28-29日举办“第五届ICP-MS及其他无机质谱技术进展与应用”主题网络研讨会。本次会议将延续往届专业、务实的风格,特邀国内外权威专家、知名学者及企业技术骨干齐聚云端。会议将围绕ICP-MS在金属杂质分析、形态分析、同位素分析、单颗粒分析、单细胞分析、激光剥蚀联用等领域的应用以及辉光放电质谱等其他无机质谱技术展开深入研讨,重点剖析复杂基质样品分析中的难点与解决方案。邀请有礼扫描二维码,点击“邀请有礼”生成专属海报,邀请5人及以上报名,即可获得《电感耦合等离子体光谱与质谱分析技术》1本。包邮到家!添加微信13261573827领取,截至时间4月29日
报告介绍
报告介绍:
聚焦高端新材料产业中超痕量杂质精准分析的技术痛点与应用需求,结合NexION系列ICPMS技术优势,重点阐述DRC动态反应池模式在复杂基体高干扰场景下的抗干扰优势,依托高效干扰消除机制,有效去除多类质谱重叠、基体重干扰问题,大幅提升检测灵敏度与结果准确性。针对超高纯材料检测难点,系统介绍高纯稀土、高温合金、高纯钴、钼及锆等等关键新材料与高纯金属物料的杂质分析方案,针对性解决高纯度材料基质复杂、杂质含量极低、干扰难以扣除等检测难题。为高端新材料研发、品质管控与产业高质量发展提供可靠的核心分析技术支撑。
主讲老师:
田新
PerkinElmer公司ICPMS仪器应用工程师,在有色金属及稀土分析领域拥有多年实践经验,擅长基于ICPMS技术开发针对性分析方案,为相关领域客户提供专业的仪器应用支持与技术解决方案优化服务。
参会说明:

一、报名贴士(敷衍填写将不予审核)

  • 1、请认真填写各项,您的手机号为您的参会凭证。

  • 2、报名后,参与直播可获取会后资料、加交流群。

二、参会方式(手机电脑均可参会)

  • 1、直播前一天,助教会统一审核。审核通过后,会发送参会链接给报名手机号。

  • 2、如无法正常参会,请拨打页面下方电话,帮您解决

三、会议资料(交流群,会后视频)

  • 1、报名并参与直播可与专家问答交流。会议群会在直播当天展示,会议ppt无法提供。

  • 2、关注【仪器信息网微服务】,微信提醒会议进度,便捷查阅近期会议及视频回放。

  • 3、下载【仪器信息网app】,获得会后回放视频、免费下载10万篇标准、获得实验室操作实战宝典等精品资料。

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