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半导体光刻技术、表征及应用 主题网络研讨会
会议时间：2022年06月16日 09:30 -- 06月16日 12:00
| 票务类型 | 参会人数量 |
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| 培训注册 ：500元 日期：6月9日前 |
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大会注册【在读学生】：700元 日期：6月10日—11日 |
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大会注册【非在读学生】：1500元 日期：6月10日—11日 |
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你已报名该会议，请勿重复报名
会议时间：06月16日 09:30 -- 06月16日 12:00
光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程通过光刻来实现， 光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。
光刻的原理是在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶，再用光线透过掩模照射在硅片表面，被光线照射到的光刻胶发生反应后，再用特定溶剂洗去被照射/未被照射的光刻胶， 从而实现电路图从掩模到硅片的转移。
为了进一步推进半导体光刻技术的发展与应用，仪器信息网拟将于2022年6月16日举办“半导体光刻技术、表征及应用”主题网络研讨会，邀请业内专家进行精彩报告分享。
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主办单位：仪器信息网
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沃特世科技（上海）有限公司 大中华区材料科学市场部高级经理
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电子工业出版社有限公司 集成电路事业部主任/副编审
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本次会议由中国水产科学研究院主办，若无法参会，请直接联系中国水产科学研究院
联系人：杨臻
联系电话：010-6867124 158 0116 9739
