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“薄膜沉积与外延技术与应用”主题网络研讨会

会议时间:2021年09月23日 09:30 -- 09月23日 12:00

票务类型 参会人数量
培训注册 :500元
日期:6月9日前
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大会注册【在读学生】:700元
日期:6月10日—11日
- +
大会注册【非在读学生】:1500元
日期:6月10日—11日
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会议时间:09月23日 09:30 -- 09月23日 12:00

大会介绍

采用一定方法,使处于某种状态的一种或几种物质的基团以物理和化学方法附着于衬底材料表面形成一种新的物质,这层新物质就是薄膜。薄膜的制备主要技术包括薄膜沉积和外延技术。薄膜沉积和外延技术是半导体制造工艺中的非常重要的技术。

基于此,仪器信息网拟于2021年9月23日举办“薄膜沉积与外延技术与应用”主题网络研讨会,依托“网络讲堂”栏目,邀请业内专家以及技术人员参与本次网络研讨会,就薄膜沉积与外延技术与应用等话题共同探讨,为广大从事薄膜沉积与外延技术研发等方面的专家学者和技术人员提供一个交流的空间。

主办单位:仪器信息网

会议日程

09月23日 薄膜沉积与外延技术与应用 我要参会
  • 09:00--12:00 待定 牛津仪器科技(上海)有限公司
  • 09:30--10:00 点击观看 几种二维及少层材料的生长与物性表征 杨鹏 云南大学 研究员
  • 10:00--10:30 点击观看 如何用原子力显微镜评价高质量薄膜 刘志文 牛津仪器 高级应用科学家
  • 10:30--11:00 离子束溅射镀膜技术及其应用 王晓东 中国科学院半导体研究所 研究员
  • 11:00--11:30 硅光芯片工艺流程及对薄膜工艺的需求 杨妍 中国科学院微电子研究所 研究员

赞助单位

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