禾川化学案例解析| 硅片清洗剂研发

苏州禾川化学技术服务有限公司简介：

简称禾川化学，成立于2012年，是一个专注解决企业产品研发、生产诸多环节技术需求的服务外包平台；业务覆盖材料、化学、环保、生物医药、新能源等多个领域，针对企业产品的技术创新、质量管控、失效诊断、选材应用、环保达标等问题，提供配方分析、技术开发、大型仪器检测、原料成分分析、异物分析、原料定制、环境检测、零排放水处理工艺、技术培训及咨询等综合技术解决方案。

禾川化学总部位于苏州纳米城，自建化学实验室、大型光谱仪器室、异物分析实验室、表面活性剂应用中心、半导体原料分析质量检测中心及环境工程技术中心。

为帮助客户尽早降低生产链中的风险,保持产品的完整性。半导体原材料检测是流程的关键步骤,有助于确保您的供应商满足您的规范，对原材料成分、纯度等进行测试，评价原材料的纯度是否符合要求、性能是否达标等,为产品质量控制提供重要参考。

禾川化学半导体案例分享：

硅片清洗剂主要用在单多晶线切割后的硅片表面清洗处理，能有效地清除硅片表面的污染物，使硅片表面洁净如一，特别适用于太阳能硅片清洗，有利于硅片制绒，提高电池片的转化效率。

国内硅片清洗剂主要有三种，分别是单组份清洗剂，双组份清洗剂，多组分清洗剂。

硅片清洗剂大多数呈碱性液体，主要成分是碱、磷酸盐、硅酸盐、碳酸盐、鳌合剂和表面活性剂。

（1）对硅片切割液、研磨液等具有较好乳化、分散及清洁作用，且使用寿命长，易于清洗漂洗。

（2）硅片表面不易产生过腐蚀。

（3）中温使用，浓度高、成本低、速度快，效果好。

（4）清洗性能好，清洗后的硅片表面无残留,硅片制绒及光电性能好。

（5）配合超声波，清洗效果更佳。

强碱的皂化作用可以将油脂分解成可溶的物质随清洗液冲走，磷酸盐和硅酸盐都能提供一定的清洁效果。

碳酸盐具有弱碱性，pH值在9-9.5，碳酸盐的主要作用是作为缓冲剂，使清洗液的pH值保持在一定范围内。

鳌合剂一方面通过化学反应减少溶液中的自由金属离子，另一方面通过竞争吸附提前吸附在硅片表面从而减少金属在硅片表面的附着。

表面活性剂的性质主要由亲水基团决定，一类是溶解于水后能解离的离子型表面活性剂，另一类是在水中不能解离的非离子型表面活性剂。

在半导体清洗中为避免离子污染，通常使用非离子型表面活性剂。在切片过程中，切屑、油污、金属原子等易粘附在硅片表面，清洗液中的表面活性剂一方面能吸附各种粒子、有机分子，并在硅表面形成一层吸附膜，阻止粒子和有机分子粘附在硅表面上，另一方面可渗入到粒子和油污粘附的界面上，把粒子和油污从界面分离随清洗液带走，起到清洗作用使硅片表面洁净。

一般来说在碱性清洗液中加人表面活性剂主要有以下2个作用：

1）降低表面张力

表面活性剂在溶液中的排列情况与浓度有关，只有当浓度达一定值时，才能在溶液表面聚集足够的数量形成单分子膜，从而降低表面张力，增强清洗液的润湿和渗透作用。

2）提高超声效率

借助于表面活性剂的润湿、渗透、乳化、增溶、分散等作用，使污染在硅片表面的附着力削弱，再施以加热、超声波等物理方法，使污染物脱离硅片表面，而进人清洗液中被乳化。

如果想进一步了解硅片清洗剂配方或研发，欢迎来电禾川化学咨询。