切割加工胶配方分析【技术引领，行业标杆】

切割加工胶配方分析【技术引领，行业标杆】

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环氧树脂和添加各种光稳定剂后环氧树脂的透过光谱图。由图可以看出所有紫外稳定剂与环氧树脂均有良好的相容性, 对环氧树脂可见光区的透光率没有影响。在紫外光区, 未经改性的环氧树脂EP- 400 在400nm 左右仍有很高的光透过率( > 82% ) , 对300nm 以下的紫外光才能够完全吸收, 因此当EP- 400 用于UV -WLED 的封装时容易造成紫外光泄漏。紫外线吸收剂是一类能强烈地、选择性地吸收紫外线的化合物, 是光稳定剂中最主要的一种。从图4 中可以看出二羟基二苯甲酮类紫外吸收剂BP- 1和苯并三唑类紫外吸收剂UV - P、UV - 329 都具有良好的紫外吸收性能, 在透明环氧EP400中加入0. 1w %t 的紫外吸收剂就可以达到完全吸收的效果。其中UV - 329、UV - P 和BP- 1 的吸收截止谱带为380nm 左右, 均可以达到防止紫外线泄漏的目的。另外从图4 可以看出, 添加受阻氨类光稳定剂HS- 508 和BW - 10LD 的环氧树脂的UV- V is透过光谱与纯EP- 400基本相同, 这说明受阻胺类光稳定剂不具有紫外线吸收功能, 对环氧树脂可见光区的透光性能也没有影响。

制备纳米氧化锌、纳米S- T和纳米S- T - S粒子。所制备纳米ZnO 粒径为27 nm; 二氧化硅- 二氧化钛( S- T )粒径69nm, 二氧化硅/二氧化钛= 36. 5 w%t , 600e 下煅烧2h, 使二氧化钛转变为锐钛矿型; 制备了二氧化硅- 二氧化钛- 二氧化硅( S - T - S)粒径约为72nm, 二氧化硅核、二氧化钛包覆层和最外层二氧化硅的重量比为WSilica: WT itan ia: WS ilica= 0. 70: 0. 27: 0. 03, 600e 下煅烧2h。图5是ZnO /环氧和S- T /环氧纳米复合材料的UV- V is透过谱。由于S- T- S 纳米粒子, 最外层二氧化硅含量非常低, 对复合材料透过性能影响很低, S- T - S /环氧纳米复合材料的UV - V is图谱与S- T /环氧复合材料的图谱基本一致。