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我要测网 视频 半导体中埋藏层化学态的高效无损表征
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半导体中埋藏层化学态的高效无损表征

埋藏层及其界面对电池、太阳能电池和晶体管等器件的性能至关重要,但传统X射线光电子能谱(XPS)探测深度有限,难以在不破坏样品的前提下分析深层化学态。硬X射线光电子能谱(HAXPES)可无损探测更深的表面以下区域,是研究复杂半导体材料的有力手段。本报告将结合半导体器件、光学薄膜界面及MOS结构能带变化等实际案例,展示HAXPES在埋藏界面与氧化过程研究中的应用。

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